La estadounidense Micron Technologies planea invertir hasta 500 mil millones de yenes (3,6 mil millones de dólares) para introducir la litografía ultravioleta extrema (EUV) en Japón, lo que la convertiría en la primera empresa en explotar este método de producción en el país. EUV se utiliza en la fabricación de los semiconductores más avanzados y Micron planea utilizar máquinas con esta tecnología para fabricar la próxima generación de memoria dinámica de acceso aleatorio (DRAM) en su planta de Hiroshima. También conocidos como chips 1-gamma. Tenga en cuenta que los chips DRAM se utilizan ampliamente en electrónica por su capacidad de proporcionar memoria de alta capacidad a bajo costo.
"Estamos orgullosos de ser los primeros en utilizar EUV en Japón y de desarrollar y fabricar productos 1-gamma en nuestras instalaciones de Hiroshima", dijo Sanjay Mehrotra, director ejecutivo de Micron. "Nuestros proyectos reflejan nuestro compromiso continuo con Japón, nuestra estrecha relación con el gobierno japonés y las habilidades de nuestro equipo local".
Impulsar la fabricación nacional de chips
Debido a la escasez mundial de chips y a las crecientes tensiones sobre los semiconductores entre Estados Unidos y China, que provocaron restricciones generalizadas a las exportaciones de componentes y efectos indirectos en varios países. Atrapados en el fuego cruzado, muchos gobiernos, incluido Japón, están tratando actualmente de impulsar sus propias capacidades de fabricación.
El gobierno japonés ya se ha comprometido a brindar un importante apoyo financiero para proyectos de desarrollo y fabricación de chips de próxima generación en el país. Como el acuerdo firmado con Rapidus, cuyo objetivo es fabricar chips de 2 nm en Japón para 2025. El proyecto recibió 70 mil millones de yenes (532 millones de dólares) en subsidios del gobierno japonés e inversiones de Toyota, Sony y el gigante de las telecomunicaciones NTT.
Micron invierte masivamente en la construcción de fábricas en Estados Unidos
La noticia de la inversión de Micron en la fabricación de chips japonesa llega ocho meses después de que la compañía anunciara que gastaría 20 mil millones de dólares para construir lo que considera la fábrica de semiconductores más grande jamás construida en los Estados Unidos. Está previsto construir este sitio en el condado de Onondaga, Nueva York. El mes anterior, Micron inició la construcción de un Planta de fabricación de memorias cerca de su sede en Boise, Idaho..
En una declaración hecha entonces, el director general de Micron, Sanjay Mehrotra, consideró que la adopción de la CHIPS and Science Act, un texto del Gobierno americano destinado a reforzar la producción de semiconductores en territorio americano, en particular mediante una subvención de 52.000 millones de dólares, ha ayudado revitalizar esta industria en Estados Unidos, país que ha visto descender considerablemente su cuota de mercado en este sector en los últimos años.
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